PCBTok 的先进氮化硅基板

氮化硅,也称为 Si3N4,是一种由硅和氮组成的化合物。 它具有良好的热稳定性、低孔隙率和耐水解性,使其成为印刷电路板的优良材料。

PCBTok 是最可靠的氮化硅基板 PCB 板制造商之一。 十多年来,PCBTok 一直为亚洲、欧洲和美洲的 1 多家客户提供服务。

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氮化硅基板的热、机械和电性能

氮化硅衬底的热学、机械和电学特性对于电子器件的开发非常重要。 氮化硅具有高热膨胀系数 (CTE),这意味着它的膨胀和收缩率高于其他陶瓷。

与其他材料相比,氮化硅还具有较低的热膨胀系数。 这意味着氮化硅在承受高温和应力时不会变形。 氮化硅在高温下也非常耐腐蚀。

PCBTok 是最可靠的氮化硅基板制造商。 我们拥有一支专业的工程师团队,致力于为您提供最好的产品。 让我们知道您的要求,我们将为您制造产品。

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氮化硅基板PCB(按厚度)

0.1mm

0.1mm厚的氮化硅基板导热率低。 它非常坚硬且化学耐用,并且对酸和醇具有耐化学性,从而使设备具有更好的稳定性。

0.25mm

用于半导体工业、微电子等行业应用,具有高平面密度、优异的耐腐蚀性和超低的热膨胀系数。

0.385mm

采用低介电常数涂层,兼容多种电子设备。0.385毫米的厚度使其几乎适用于所有应用,从高端可穿戴设备到消费电子产品。

0.5mm

厚度为 0.5 毫米的氮化硅基板是一种非常坚固、机械非常坚固和耐用的基板。 它具有良好的导热特性,可确保其在温度范围内具有良好的性能。

0.635mm

厚度为 0.635 毫米的氮化硅基板因其高导热性和低热膨胀系数而成为进行热研究和其他热分析的优良材料。

1.0mm

厚度为1.0mm的氮化硅衬底。可在高温、高电压和低电场条件下使用。具有良好的化学稳定性、抗辐射性和磁通密度绝缘性能。

氮化硅基板 (Si3N4) 完整指南

氮化硅衬底(Si3N4)是印刷电路板制造中最常用的材料。主要原因是它不导电且具有高导热性。这意味着它可以作为衬底,在其上构建各种类型的电路,而不会对其性能造成任何干扰。

此外,氮化硅衬底还以其高强度和高硬度而闻名,这使得它们非常适合用于需要承受高压或应力的工业应用。

基板的主要功能是为电子元件和其他PCB运行所需的元件提供稳定的安装表面。基板可由多种材料制成,例如玻璃、氧化铝、聚酰亚胺等。氮化硅基板相比其他基板具有诸多优势,因此在PCB制造中得到广泛应用。

氮化硅基板 (Si3N4) 完整指南
PCBTok 久经考验的氮化硅基板

氮化硅基板的特性和特性

氮化硅衬底材料最重要的特性之一是它们能够承受高温而不改变其物理形式或结构。 这使得它们非常适合在高温常见的环境中使用,例如在工业环境或需要热量才能正常工作的电子设备中。

这些氮化硅基板的另一个重要特点是它们的低密度和轻质特性,这使得它们可以很容易地被工人处理,而不会因整天搬运重物而引起不适或疲劳(例如在电子工厂工作时)。 这也意味着他们可以轻松地从一个地方运输到另一个地方,而无需代表那些负责确保运输过程中一切安全的人付出太多努力。

提高性能的氮化硅基板

氮化硅是一种硬质材料,可用作印刷电路板的基板。 当用作基材时,它可提供出色的热稳定性和改进的电气性能。 这使其成为需要高温操作和/或高速信号传输的设备的理想选择。

氮化硅基板常用于印刷电路板的制造过程。 它们提供出色的热稳定性和改进的电气性能,使其成为高温操作或高速信号传输的理想选择。

提高性能的氮化硅基板

PCBTok 久经考验的氮化硅基板

为什么选择 PCBTok 作为 PCB Prepreg 制造商
PCBTok 久经考验的氮化硅基板 (1)

PCBTok是氮化硅基板的专业制造商和供应商。 我们以具有竞争力的价格、良好的服务和快速的交货提供最优质的氮化硅衬底。

我们致力于以具有竞争力的价格为客户提供高质量的产品和服务。 我们一直在努力与客户建立长期的合作关系。

我们相信,通过我们对质量和卓越的承诺以及我们认真倾听客户需求的能力,我们可以共同创造价值。

如果您对我们的任何氮化硅基板产品感兴趣或想讨论定制订单,请随时与我们联系。

氮化硅基板制造

提高性能的氮化硅基板

氮化硅基板在制造印刷电路板时的可靠性是决定产品质量的最重要因素之一。 氮化硅基板对各种环境条件的耐受性,其高强度和硬度、低热膨胀系数、耐高温性使其成为制造印刷电路板最受欢迎的材料之一。

氮化硅衬底用于制造印刷电路板,以及其他需要使用强度高、耐热且无需热处理的材料的应用领域。氮化硅衬底广泛应用于电子设备的制造,例如计算机、手机、卫星等。

氮化硅基板与其他陶瓷

氮化硅衬底是一种陶瓷材料,与其他衬底相比具有诸多优势。其中最重要的优势之一是其高导热性,这意味着它比玻璃或二氧化硅等其他材料更能有效地散热。这使得在加工过程中可以承受更高的温度,从而缩短印刷电路板的制造时间。

另一个优点是氮化硅比其他陶瓷具有更高的硬度,这使得它更耐用。 这意味着在处理或运输过程中损坏的风险更小,从而进一步降低了成本并提高了效率。 此外,氮化硅具有良好的耐化学性和优异的抗热震性。

数字时代最可靠的氮化硅基板

PCBTok 的氮化硅基板以其高导热性、高抗热震性、良好的耐化学性和低应力裂纹敏感性而闻名。

氮化硅基板生产详情跟进

没有名称技术规格
标准版先进的
1层数1-20图层22-40层
2基材KB、Shengyi、ShengyiSF305、FR408、FR408HR、IS410、FR406、GETEK、370HR、IT180A、Rogers4350、Rogers400、PTFE层压板(Rogers系列、Taconic系列、Arlon系列、Nelco系列)、Rogers/Taconic/Arlon/Nelco层压板带FR -4 材料(包括部分 Ro4350B 与 FR-4 混合层压)
3PCB类型刚性 PCB/FPC/Flex-刚性背板、HDI、高多层盲埋PCB、内嵌电容、内嵌电阻板、重铜电源PCB、背钻。
4层压类型盲埋式层压少于 3 次的机械盲埋孔层压少于 2 次的机械盲埋孔
HDI PCB1+n+1,1+1+n+1+1,2+n+2,3+n+3(n埋孔≤0.3mm),激光盲孔可填镀1+n+1,1+1+n+1+1,2+n+2,3+n+3(n埋孔≤0.3mm),激光盲孔可填镀
5成品板厚度0.2-3.2mm3.4-7mm
6最小核心厚度0.15 毫米(6 万)0.1 毫米(4 万)
7铜厚度分钟。 1/2 盎司,最大。 4盎司分钟。 1/3 盎司,最大。 10盎司
8通孔壁20um(0.8 万)25um(1 万)
9最大板尺寸500*600mm(19”*23”)1100*500mm(43”*19”)
10穿孔最小激光钻孔尺寸4百万4百万
最大激光钻孔尺寸6百万6百万
孔板的最大纵横比10:1(孔径>8mil)20:1
激光通过填充电镀的最大纵横比0.9:1(深度包括铜厚)1:1(深度包括铜厚)
机械深度的最大纵横比-
控制钻孔板(盲孔钻孔深度/盲孔尺寸)
0.8:1(钻具尺寸≥10mil)1.3:1(钻具尺寸≤8mil),1.15:1(钻具尺寸≥10mil)
分钟。 机械深度控制深度(背钻)8百万8百万
孔壁与孔之间的最小间隙
导体(无盲孔,通过 PCB 埋入)
7mil(≤8L),9mil(10-14L),10mil(>14L)5.5mil(≤8L),6.5mil(10-14L),7mil(>14L)
孔壁导体之间的最小间隙(盲孔和埋孔PCB)8mil(1次贴合),10mil(2次贴合),12mil(3次贴合)7mil(1次贴合), 8mil(2次贴合), 9mil(3次贴合)
孔壁导体之间的最小间隙(通过PCB埋入的激光盲孔)7mil(1+N+1);8mil(1+1+N+1+1 or 2+N+2)7mil(1+N+1);8mil(1+1+N+1+1 or 2+N+2)
激光孔和导体之间的最小间距6百万5百万
不同网孔壁之间的最小间距10百万10百万
同一网中孔壁之间的最小间距6mil(通孔和激光孔PCB),10mil(机械盲埋PCB)6mil(通孔和激光孔PCB),10mil(机械盲埋PCB)
NPTH 孔壁的最小空间8百万8百万
孔位公差±2百万±2百万
NPTH 公差±2百万±2百万
压装孔公差±2百万±2百万
埋头孔深度公差±6百万±6百万
埋头孔尺寸公差±6百万±6百万
11垫(环)激光钻孔的最小焊盘尺寸10mil(4mil激光过孔),11mil(5mil激光过孔)10mil(4mil激光过孔),11mil(5mil激光过孔)
机械钻孔的最小垫尺寸16万(8万钻孔)16万(8万钻孔)
最小 BGA 焊盘尺寸HASL:10mil,LF HASL:12mil,其他表面工艺为10mil(闪金7mil可以)HASL:10mil,LF HASL:12mil,其他表面工艺为 7mi
焊盘尺寸公差(BGA)±1.5mil(焊盘尺寸≤10mil);±15%(焊盘尺寸>10mil)±1.2mil(焊盘尺寸≤12mil);±10%(焊盘尺寸≥12mil)
12宽度/空间内部层1/2OZ:3/3密尔1/2OZ:3/3密尔
1OZ:3/4mil1OZ:3/4mil
2OZ:4/5.5mil2OZ:4/5mil
3OZ:5/8mil3OZ:5/8mil
4OZ:6/11mil4OZ:6/11mil
5OZ:7/14mil5OZ:7/13.5mil
6OZ:8/16mil6OZ:8/15mil
7OZ:9/19mil7OZ:9/18mil
8OZ:10/22mil8OZ:10/21mil
9OZ:11/25mil9OZ:11/24mil
10OZ:12/28mil10OZ:12/27mil
外层1/3OZ:3.5/4密尔1/3OZ:3/3密尔
1/2OZ:3.9/4.5密尔1/2OZ:3.5/3.5密尔
1OZ:4.8/5mil1OZ:4.5/5mil
1.43OZ(正):4.5/71.43OZ(正):4.5/6
1.43OZ(负):5/81.43OZ(负):5/7
2OZ:6/8mil2OZ:6/7mil
3OZ:6/12mil3OZ:6/10mil
4OZ:7.5/15mil4OZ:7.5/13mil
5OZ:9/18mil5OZ:9/16mil
6OZ:10/21mil6OZ:10/19mil
7OZ:11/25mil7OZ:11/22mil
8OZ:12/29mil8OZ:12/26mil
9OZ:13/33mil9OZ:13/30mil
10OZ:14/38mil10OZ:14/35mil
13尺寸公差孔位0.08 (3 密耳)
导体宽度(W)20% 主偏差
瓦/瓦
主偏差 1 万
瓦/瓦
外形尺寸0.15 毫米(6 密耳)0.10 毫米(4 密耳)
导体和轮廓
(C-O)
0.15 毫米(6 密耳)0.13 毫米(5 密耳)
翘曲和扭曲0.75%0.50%
14阻焊填充有阻焊层的通孔的最大钻孔工具尺寸(单面)35.4百万35.4百万
阻焊颜色绿色,黑色,蓝色,红色,白色,黄色,紫色哑光/光泽
丝印颜色白色、黑色、蓝色、黄色
蓝胶铝填充过孔的最大孔径197百万197百万
树脂填充过孔的完成孔尺寸 4-25.4百万 4-25.4百万
树脂板填充过孔的最大纵横比8:112:1
阻焊桥最小宽度Base Copper≤0.5 oz、沉锡: 7.5mil(黑色), 5.5mil(其他颜色) , 8mil(on铜区)
底铜≤0.5 oz、表面处理未浸锡: 5.5 mil(Black,extremity 5mil), 4mil(Other
颜色,末端 3.5mil) , 8mil( 在铜区域
Base coppe 1 oz: 4mil(绿色), 5mil(其他颜色), 5.5mil(黑色,末端5mil),8mil(在铜区域)
Base Copper 1.43 oz: 4mil(Green), 5.5mil(Other color), 6mil(Black), 8mil(on Copper area)
Base Copper 2 oz-4 oz: 6mil, 8mil(在铜面积上)
15表面处理无铅闪金(电镀金)、ENIG、硬金、闪金、HASL无铅、OSP、ENEPIG、软金、沉银、沉锡、ENIG+OSP、ENIG+金手指、闪金(电镀金)+金手指,沉银+金手指,沉锡+金手指
含铅有铅喷锡
宽高比10:1(HASL无铅、HASL有铅、ENIG、沉锡、沉银、ENEPIG);8:1(OSP)
最大成品尺寸喷锡铅22″*39″;喷锡无铅22″*24″;闪金24″*24″;硬金24″*28″;ENIG 21″*27″;闪金(电镀金)21″*48 ″;沉锡16″*21″;沉银16″*18″;OSP 24″*40″;
最小成品尺寸喷锡铅5″*6″;喷锡无铅10″*10″;闪金12″*16″;硬金3″*3″;闪金(电镀金)8″*10″;沉锡2″* 4″;沉银2″*4″;OSP 2″*2″;
PCB厚度HASL有铅0.6-4.0mm;HASL无铅0.6-4.0mm;闪金1.0-3.2mm;硬金0.1-5.0mm;ENIG 0.2-7.0mm;闪金(电镀金)0.15-5.0mm;沉锡0.4- 5.0mm;沉银0.4-5.0mm;OSP 0.2-6.0mm
最高至金手指1.5inch
金手指之间的最小间距6百万
最小块空间到金手指7.5百万
16V 型切割面板尺寸500 毫米 X 622 毫米(最大)500 毫米 X 800 毫米(最大)
板厚0.50 毫米(20 密耳)分钟。0.30 毫米(12 密耳)分钟。
剩余厚度1/3板厚0.40 +/-0.10 毫米(16+/-4 密耳)
公差±0.13 毫米(5 密耳)±0.1 毫米(4 密耳)
槽宽最大 0.50 毫米(20 密耳)。最大 0.38 毫米(15 密耳)。
槽到槽20 毫米(787 密耳)分钟。10 毫米(394 密耳)分钟。
凹槽追踪0.45 毫米(18 密耳)分钟。0.38 毫米(15 密耳)分钟。
17老虎机槽口尺寸 tol.L≥2WPTH 槽:L:+/-0.13(5mil) W:+/-0.08(3mil)PTH 槽:L:+/-0.10(4mil) W:+/-0.05(2mil)
NPTH槽(mm) L+/-0.10 (4mil) W:+/-0.05(2mil)NPTH 槽(mm) L:+/-0.08 (3mil) W:+/-0.05(2mil)
18孔边缘到孔边缘的最小间距0.30-1.60(孔径)0.15 毫米(6 万)0.10 毫米(4 万)
1.61-6.50(孔径)0.15 毫米(6 万)0.13 毫米(5 万)
19孔边缘与电路图案之间的最小间距PTH孔:0.20mm(8mil)PTH孔:0.13mm(5mil)
NPTH孔:0.18mm(7mil)NPTH孔:0.10mm(4mil)
20图像传输注册工具电路图案与索引孔0.10(4万)0.08(3万)
电路图案与第二个钻孔0.15(6万)0.10(4万)
21前/后图像的配准容差0.075 毫米(3 万)0.05 毫米(2 万)
22多层层层错位4层:0.15 毫米(6 密耳)最大。4层:0.10mm(4mil)最大。
6层:0.20 毫米(8 密耳)最大。6层:0.13mm(5mil)最大。
8层:0.25 毫米(10 密耳)最大。8层:0.15mm(6mil)最大。
分钟。 从孔边缘到内层图案的间距0.225 毫米(9 万)0.15 毫米(6 万)
轮廓到内层图案的最小间距0.38 毫米(15 万)0.225 毫米(9 万)
分钟。 板厚4层:0.30mm(12mil)4层:0.20mm(8mil)
6层:0.60mm(24mil)6层:0.50mm(20mil)
8层:1.0mm(40mil)8层:0.75mm(30mil)
板厚公差4层:+/-0.13mm(5mil)4层:+/-0.10mm(4mil)
6层:+/-0.15mm(6mil)6层:+/-0.13mm(5mil)
8-12 层:+/-0.20mm (8mil)8-12 层:+/-0.15mm (6mil)
23绝缘电阻10KΩ~20MΩ(典型值:5MΩ)
24电导率<50Ω(典型值:25Ω)
25测试电压250V
26阻抗控制±5欧姆(<50欧姆),±10%(≥50欧姆)

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3。 TNT

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4。 联邦快递

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请联系您的销售代表以获取运输解决方案。

注意:如果您需要其他,请联系您的销售代表以获取运输解决方案。

您可以使用以下付款方式:

电汇(TT):电汇(TT)是一种电子转账方式,主要用于海外汇款。它非常便捷。

银行转账/电汇:如需使用银行账户进行电汇付款,请携带电汇信息前往最近的银行网点。汇款完成后,您的款项将在 3-5 个工作日内到账。

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    Jefferson Perez,哥伦比亚麦德林的工程咨询经理
氮化硅基板的热性能

氮化硅是一种具有优异热性能的陶瓷材料。它能承受高温,且热膨胀系数极低,这意味着它不会随温度变化而膨胀或收缩。氮化硅常被用作集成电路的衬底,因为它耐腐蚀、抗氧化和耐化学腐蚀。它也被应用于半导体制造中,用作绝缘体或晶圆键合工艺的一部分。

氮化硅衬底是一种陶瓷材料,设计用作热管理材料。该材料具有高导热性和低热膨胀系数,因此适用于高功率半导体器件。

氮化硅基板的电性能

氮化硅具有高熔点、不导电和化学惰性,使其成为电气应用的优良绝缘体。

氮化硅衬底具有低介电常数,因此非常适合用于微波电路、射频电路和微机电系统(MEMS)器件等高频应用。氮化硅衬底也用于电子工业,用于制造传感器和换能器,以及二极管、晶体管和集成电路等半导体器件。

氮化硅基板的机械性能

氮化硅衬底的机械性能至关重要,原因有以下几点:与碳化硅及类似材料相比,它具有更高的强度、硬度和刚度。这使其成为需要高强度部件的应用的理想选择,例如航空航天或国防领域,在这些领域中,被加工或制造的部件会承受巨大的力。

对氮化硅衬底的力学性能进行了广泛的研究,结果表明氮化硅是一种强度高、硬度高的材料,具有较高的杨氏模量和弹性极限。

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